钛合金CMP精抛液

产品简介

本产品是森博磨抛研究中心生产的新产品。该产品在实际应用中凭借良率高、腐蚀性小、镜面加工效果好等优良性能得到了客户的充分肯定,主要用于不锈钢、钛合金的精抛工序,目前已经在国内多家手机和平板电脑代工企业得到广泛应用。

主要特点

本产品具有表面张力低、易清洗、纯度高等特点,非常适用于不锈钢、钛合金的精抛工艺。该产品对抛光设备及工件腐蚀性极小,化学作用温和,可以去除不锈钢片粗抛和中抛过程中留下的划痕,有效抑制桔皮、麻点、料线等缺陷的产生。

主要用途

主要应用于钛合金的精抛工艺中。

基本参数

pH 值

比重

粘度(25℃,mPa.s )

磨料粒径(nm)

氧化钠含量(%)

外观

10-12

1.25- 1.285

<10.0

60 – 90

<0.3

乳白

8-10

1.15- 1.25

<10.0

60 – 90

<0.3

乳白

使用方法

建议抛光原浆料与去离子水比例为 1:1。

运输及保存

1、运输与存放过程中要避免光直射。
2、运输与存放温度为5℃~35℃。
3、保质期一年,建议六个月内使用。

包装规格

25kg/桶。