蓝宝石基片CMP精抛液

产品简介

蓝宝石基片CMP浆料是森博研究中心生产的水溶性高纯度浆料,主要用于蓝宝石高质量平整化加工。产品移除率高、工艺匹配性好、使用寿命长、易清洗,加工后表面平整度、粗糙度等各项指标均达到国内先进水平,在实际应用中其卓越的性能得到了充分的肯定。

主要特点

蓝宝石基片CMP浆料用特选的Si02水溶胶作为料,具有金属杂质沾污极少、易清洗、加工速率高、损伤层小、平整度高,划伤少等特点。在抛光中根据需要可以优化不同配比,均能达到最佳使用效果。与国内外同类产品相比,该产品具有抛光表面质量好、缺陷少、表面张力小、易清洗等优点。

主要用途

主要用于蓝宝石基片的高质量平整化加工。

基本参数

参数

使用方法

CMP浆料建议和去离子水的配比为1:1,也可根据实际工艺要求改变配比。

运输及保存

1、运输与存放温度为5℃~35℃。存放时应避光,以避免浆料变质。
2、保质期一年,建议六个月内使用。
3、避免金属、颗粒污染,避免与强电解质的接触。

效果呈现

蓝宝石基片抛光后AFM形貌(Ra=0.188nm)