产品中心

良率高、腐蚀性小、镜面加工效果好，主要用于不锈钢、钛合金的精抛工序，目前已经在国内多家手机和平板电脑代工企业得到广泛应用。

钛合金抛光液

铜合金抛光液由纳米氧化铝复合颗粒、分散剂、表面活性剂等组成，具有抛光精度高、抛光速率高等特点，是进口高档纳米抛光液的替代产品，广泛应用于铜合金表面的精密抛光。

铜合金抛光液

可广泛用于光纤头、碳化硅、蓝宝石、硬质合金、陶瓷、玻璃、宝石、金属等表面的研磨及抛光。

金刚石悬浮液（泛用）

高纯度、窄粒径氧化铝浆料，用于 304 不锈钢、铝合金等表面的精密研磨和抛光，可达到纳米级表面粗糙度

氧化铝悬浮液（不锈钢/铝合金等）

该产品生产工艺先进， 原材料选用严格，可以根据客户需求选择不同的浓度和粒径范围，质量可靠，性能稳定，居国内先进水平。

二氧化硅悬浮液

主要用于光纤头、金属、非金属等表面的精密研磨和抛光。产品移除率高、工艺匹配性好，易清洗，加工后表面平整度、粗糙度等各项指标居国内先进水平。

超细金刚石悬浮液

铜合金CMP精抛液由纳米氧化铝复合颗粒、分散剂、表面活性剂等组成，具有抛光精度高、抛光速率高等特点，是进口高档纳米抛光液的替代产品，广泛应用于铜合金表面的精密抛光。

铜合金CMP精抛液

铝合金抛光液是一种高性能纳米抛光液，具有抛光速率高、抛光精度高等特点，是进口高档纳米抛光液的替代产品。可广泛应用于铝合金、不锈钢等精密器件的表面超精密抛光。

铝合金CMP精抛液

该产品对抛光设备及工件腐蚀性极小，化学作用温和。

钛合金CMP精抛液

表面张力低、易清洗、纯度高，对抛光设备及工件腐蚀性极小，化学作用温和，可去除划痕，抑制缺陷产生。 在实际应用中良率高、腐蚀性小、镜面加工效果好，已在国内多家手机和平板电脑代工企业广泛应用

不锈钢CMP精抛液

主要用于手机陶瓷盖板的高质量平整化加工。

陶瓷CMP精抛液

主要用于硬盘基片的精抛工艺。

计算机硬盘CMP精抛液

该产品主要应用于硅材料的初抛~精抛抛光工艺。

硅片精抛液

水溶性高纯度浆料，用于蓝宝石高质量平整化加工。具有金属杂质沾污极少、易清洗等特点。

蓝宝石基片CMP精抛液

该产品主要用于陶瓷、玻璃、蓝宝石等研磨/抛光片的表面清洗。

陶瓷、玻璃、蓝宝石清洗剂

用于金属研磨、抛光后的清洗工艺中，控制粒子的吸附状态，降低表面张力。

金属清洗剂

硅衬底加工新产品，无金属离子沾污，能有效去除硅研磨片表面多种污染物，含有多种表面活性剂，降低表面张力，保证清洗均一性；有机碱成分去除吸附颗粒、溶解有机污染物，有缓冲作用，属环保型产品，用于硅片线切割、研磨、抛光等加工后的表面清洗。

硅片加工清洗剂

锌研磨剂

不锈钢研磨剂

铁研磨剂

铝研磨剂

不锈钢光亮剂

铁光亮剂

砂纸/磨盘/抛光布

智能全自动金相磨抛机GP-1000

自动滴液设备