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金相粗抛液
金相精抛液
其他抛光液
清洗剂
研磨剂
抛光布/磨盘/砂纸
设备
良率高、腐蚀性小、镜面加工效果好,主要用于不锈钢、钛合金的精抛工序,目前已经在国内多家手机和平板电脑代工企业得到广泛应用。
钛合金抛光液
铜合金抛光液由纳米氧化铝复合颗粒、分散剂、表面活性剂等组成,具有抛光精度高、抛光速率高等特点,是进口高档纳米抛光液的替代产品,广泛应用于铜合金表面的精密抛光。
铜合金抛光液
可广泛用于光纤头、碳化硅、蓝宝石、硬质合金、陶瓷、玻璃、宝石、金属等表面的研磨及抛光。
金刚石悬浮液(泛用)
高纯度、窄粒径氧化铝浆料,用于 304 不锈钢、铝合金等表面的精密研磨和抛光,可达到纳米级表面粗糙度
氧化铝悬浮液(不锈钢/铝合金等)
该产品生产工艺先进, 原材料选用严格,可以根据客户需求选择不同的浓度和粒径范围,质量可靠,性能稳定,居国内先进水平。
二氧化硅悬浮液
主要用于光纤头、金属、非金属等表面的精密研磨和抛光。产品移除率高、工艺匹配性好,易清洗,加工后表面平整度、粗糙度等各项指标居国内先进水平。
超细金刚石悬浮液
铜合金CMP精抛液由纳米氧化铝复合颗粒、分散剂、表面活性剂等组成,具有抛光精度高、抛光速率高等特点,是进口高档纳米抛光液的替代产品,广泛应用于铜合金表面的精密抛光。
铜合金CMP精抛液
铝合金抛光液是一种高性能纳米抛光液,具有抛光速率高、抛光精度高等特点,是进口高档纳米抛光液的替代产品。可广泛应用于铝合金、不锈钢等精密器件的表面超精密抛光。
铝合金CMP精抛液
该产品对抛光设备及工件腐蚀性极小,化学作用温和。
钛合金CMP精抛液
表面张力低、易清洗、纯度高,对抛光设备及工件腐蚀性极小,化学作用温和,可去除划痕,抑制缺陷产生。 在实际应用中良率高、腐蚀性小、镜面加工效果好,已在国内多家手机和平板电脑代工企业广泛应用
不锈钢CMP精抛液
主要用于手机陶瓷盖板的高质量平整化加工。
陶瓷CMP精抛液
主要用于硬盘基片的精抛工艺。
计算机硬盘CMP精抛液
该产品主要应用于硅材料的初抛~精抛抛光工艺。
硅片精抛液
水溶性高纯度浆料,用于蓝宝石高质量平整化加工。具有金属杂质沾污极少、易清洗等特点。
蓝宝石基片CMP精抛液
该产品主要用于陶瓷、玻璃、蓝宝石等研磨/抛光片的表面清洗。
陶瓷、玻璃、蓝宝石清洗剂
用于金属研磨、抛光后的清洗工艺中,控制粒子的吸附状态,降低表面张力。
金属清洗剂
硅衬底加工新产品,无金属离子沾污,能有效去除硅研磨片表面多种污染物,含有多种表面活性剂,降低表面张力,保证清洗均一性;有机碱成分去除吸附颗粒、溶解有机污染物,有缓冲作用,属环保型产品,用于硅片线切割、研磨、抛光等加工后的表面清洗。
硅片加工清洗剂
锌研磨剂
不锈钢研磨剂
铁研磨剂
铝研磨剂
不锈钢光亮剂
铁光亮剂
砂纸/磨盘/抛光布
智能全自动金相磨抛机GP-1000
自动滴液设备